La pulverización catódica con magnetrón reactivo es una técnica madura para depositar una fina capa de compuesto sobre una amplia gama de sustratos como capa superior o capa intermedia en un recubrimiento multicapa. El alcance de "delgado" va desde unos pocos nanómetros hasta varios micrómetros.
¿Por qué chisporrotea un magnetrón?
La pulverización catódica con magnetrón es el proceso de colisión entre las partículas incidentes y los objetivos… La pulverización catódica con magnetrón aumenta la densidad del plasma mediante la introducción de un campo magnético en la superficie del cátodo objetivo y utilizando las limitaciones de el campo magnético sobre las partículas cargadas para aumentar la tasa de pulverización.
¿Qué se entiende por pulverización catódica reactiva?
La pulverización catódica reactiva es un proceso que permite depositar compuestos mediante la introducción de un gas reactivo (normalmente oxígeno o nitrógeno) en el plasma que suele estar formado por un gas inerte como argón (más común), xenón o criptón.
¿Cómo funciona la pulverización catódica con magnetrón?
La pulverización catódica con magnetrón es una tecnología de deposición que implica un plasma gaseoso que se genera y se limita a un espacio que contiene el material que se va a depositar: el 'objetivo'. … Estas colisiones causan una repulsión electrostática que 'arranca' electrones de los átomos de gas chisporroteantes, provocando la ionización.
¿Por qué chisporrotea RF?
RF o pulverización catódica por radiofrecuencia es la técnica implicada en la alternancia del potencial eléctrico de la corriente en el entorno de vacío a frecuencias de radio para evitar que se acumule una carga en ciertos tipos de materiales objeto de pulverización catódica, que con el tiempo puede provocar un arco en el plasma que arroja gotas …
